CHUHATSU 中央發明研究所 R系列 高真空裝置

【廠商介紹】

創立於1969年，總公司位於日本東京，提供浸漬(Impregnation)技術相關之服務和設備設計生產的公司。
專門開發與浸漬相關之浸漬裝置、浸漬劑、真空裝置…等設備，並也提供鑄件‧燒結零件的浸漬加工服務。

【產品介紹】

基於浸漬技術的實際經驗，所衍生出的高真空裝置。

CHUHATSU 中央發明研究所所開發之真空裝置(Vacuum system)，採用於浸漬技術上有實績並值得信賴的Busch製的迴轉葉片式(Rotary vane)和Anlet製的羅茨式(Dry roots)的真空泵浦(Vacuum pumps)。可達到於壓鑄業界所要求之接近完全真空的真空度，並提供穩定、且高循環的效果。

此外，另可搭配縮短抽真空時間的真空桶(Vacuum tank)或是防止異物吸入的真空捕捉器(Vacuum trap)…等套件，來達到壓鑄業界所要求的高真空(High Vacuum)之上的真空系統。

【產品特色】

• 一體式真空裝置

• • 一體式製造降低價格
    將可對應小型壓鑄機的60L的真空桶、防止異物吸入真空幫浦的真空捕捉器，活用鑄造技術以及製桶技術進行一體式製造生產。並減少真空裝置內所需零件數來降低價格。

• • 省空間的緊緻設計
    由於真空桶和真空捕捉器活用鑄造技術以及製桶技術的關係，使其在結構上達成一體化的緊緻設計。
    雖其結構緊緻，但仍可維持接近完成真空的高真空度的優異性能之外，省空間的緊緻設計讓您可更靈活運用工廠內空間。

• • 提升真空幫浦平移結構的維護性
    採用可發揮優異的排氣能力迴轉葉片式真空幫浦以及真空幫浦平移結構的關係，除了讓您可在短時間內就可達到高真空化要求之外，還可以提生真空幫浦的維護性，來得到高生產性。

• • 標準塗裝
    銀色(Silver)*[若有指定塗裝色需另外加價]
    
    

• 標準式真空裝置

• • 多種樣式供需求選用
    相較於一體式設計，標準式有多種樣式可依需求選用最適合恰當的高真空裝置。

• • 更優異性能
    相較於一體式設計，標準可搭配功能更優異的真空桶、真空捕捉器以及真空幫浦的關係，可提供安定、高循環的製作環境。
    
    

• 高速遮斷閥控制裝置

• • 高循環時間
    即便循環時間於20sec以下，依然可以進行安定的閥動作。

• • 可搭配他牌真空裝置
    可與使用他廠牌真空裝置的壓鑄機，進行搭配使用。

• • 真空閥多系統控制
    單一控制裝置搭載2組控制器的關係，可對2組真空閥系統進行控制。
    
    

• TOYOOKI真空閥

• • 高速遮斷動作
    高應答電磁閥搭配高速動作回路，最快可實現0.007秒高速遮斷動作。

• • 高速動作
    洩壓回路所控制之制動器(Actuator)動作，可實現高速動作。

• • 高遮斷力
    採油壓方式控制，提升真空管道的遮斷能力(1,000N)。

• • 縮短生產節拍
    搭配Chuhatsu製的控制器，可有效縮短生產節拍(Takt time)。
    
    

【產品配置】

• 一體式真空裝置
  

  

  

• 標準式真空裝置
  

  

• 高速遮斷閥控制裝置
  

  

• TOYOOKI真空閥
  

  

【動作流程】

• 真空裝置

  

• 真空閥